圖2為本申請實施例提供的剝離液機臺的第二種結構示意圖。圖3為本申請實施例提供的剝離液機臺的第三種結構示意圖。圖4為本申請實施例提供的剝離液機臺的第四種結構示意圖。圖5為本申請實施例提供的剝離液機臺的工作方法的流程示意圖。具體實施方式目前剝離液機臺在工作時,如果過濾剝離光阻時產生的薄膜碎屑的過濾器被阻塞,則需要剝離液機臺內的所有工作單元,待被阻塞的過濾器被清理后,才能重新進行剝離制程,使得機臺需頻繁停線以更換過濾器,極大的降低了生產效率。請參閱圖1,圖1為本申請實施例提供的過濾液機臺100的種結構示意圖。本申請實施例提供一種剝離液機臺100,包括:依次順序排列的多級腔室10、每一級所述腔室10對應連接一存儲箱20;過濾器30,所述過濾器30的一端設置通過管道40與當前級腔室101對應的存儲箱20連接,所述過濾器30的另一端通過第二管道50與下一級腔室102連接;其中,至少在管道40或所述第二管道50上設置有閥門開關60。具體的,圖1所示出的是閥門開關60設置在管道40上的示例圖。當當前級別腔室101對應的過濾器30被薄膜碎屑阻塞后,通過閥門開關60關閉當前級別腔室101對應的存儲箱20與過濾器30之間的液體流通。如何挑選一款適合自己公司的剝離液?佛山BOE蝕刻液剝離液配方技術
本發明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術::印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中,伴隨微細布線化而使用胺系的剝離液。然而,以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規制度的問題,而避免其使用。近年來,為了避免胺系的抗蝕劑的剝離液的問題點,還報道了一種含有氫氧化鈉和溶纖劑的剝離液(專利文獻1),由于剝離時的抗蝕劑沒有微細地粉碎,因此存在近年的微細的布線間的抗蝕劑難以除去的問題點。現有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本特開2002-323776號公報技術實現要素:發明要解決的問題因此,本發明的課題在于,提供容易除去微細的布線間的抗蝕劑的技術。用于解決問題的手段本發明人等為了解決上述課題而深入研究的結果發現,含有鉀鹽和溶纖劑的溶液與專利文獻1那樣的含有氫氧化鈉和溶纖劑的溶液相比,即使是非常微細的布線間的抗蝕劑也能細小地粉碎,從而完成本發明。即,本發明涉及一種抗蝕劑的剝離液,其特征在于,含有鉀鹽和溶纖劑。另外,本發明涉及一種抗蝕劑的除去方法,其特征在于,用上述抗蝕劑的剝離液處理施加有抗蝕劑的基材。東莞鋁鉬鋁蝕刻液剝離液銷售價格上海和輝光電用的哪家的剝離液?
光刻作為IC制造的關鍵一環常常被人重視,但是光刻膠都是作為層被去掉的,如何快速、干凈的去除工藝后的光刻膠是一個經常被疏忽的問題,但是很重要,直接影響了產品質量。如何快速有效的去除光刻膠。筆者**近就碰到一些去膠的問題,比如正膠和負膠去除需要的工藝有差別。去膠工藝還和光刻膠受過什么樣的工藝處理有關,比如ICPRIE之后的光刻膠、還有濕法腐蝕后的光刻膠。市面上針對光刻膠去除的特殊配方的去膠液有很多種,但需要根據自身產品特性加以選擇。在做砷化鎵去除光阻的案例,砷化鎵是一種化合物半導體材料,分子式GaAs。立方晶系閃鋅礦結構,即由As和Ga兩種原子各自組成面心立方晶格套構而成的復式晶格,其晶格常數是。室溫下禁帶寬度,是直接帶隙半導體,熔點1238℃,質量密度,電容率。在其中摻入Ⅵ族元素Te、Se、S等或Ⅳ族元素Si,可獲得N型半導體,摻入Ⅱ族元素Be、Zn等可制得P型半導體,摻入Cr或提高純度可制成電阻率高達107~108Ω·cm的半絕緣材料。
本實用新型涉及光刻膠生產設備,具體是一種光刻膠廢剝離液回收裝置。背景技術:光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一,其是由溶劑、感光樹脂、光引發劑和添加劑四種成分組成的對光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下,進行光化學反應,經曝光、顯影等過程,將所需要的微細圖形從掩模版轉移至待加工的襯底上,然后進行蝕刻等工藝加工,終得到所需圖像。其中,溶劑使光刻膠具有流動性,易揮發,對于光刻膠的化學性質幾乎沒有影響。感光樹脂是惰性的聚合物,用于把光刻膠中的不同材料聚在一起的粘合劑,給予光刻膠其機械和化學性質。光引發劑是光刻膠中的光敏成分,對光能發生光化學反應。添加劑是控制光刻膠材料特殊方面的化學物質,用來控制和改變光刻膠材料的特定化學性質或響應特性。在光刻工藝中,一般步驟為勻膠—干燥—前烘--曝光—顯影—后烘—蝕刻—剝離。在光刻膠剝離工序中會產生剝離廢液,光刻膠價格昂貴,如不對廢液中的光刻膠成分回收利用,會造成較大的資源浪費,因此企業通常將剝離廢液中的光刻膠樹脂進行有效回收并應用于再生產中。哪家公司的剝離液是比較劃算的?
閥門開關60設置在每一子管道301上。在一些實施例中,閥門開關60設置在每一子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實施例中,閥門開關60設置在每一第二子管道502上。具體的,閥門開關60的設置位置可以設置在連接過濾器30的任意管道上,在此不做贅述。在一些實施例中,請參閱圖4,圖4為本申請實施例提供的剝離液機臺100的第四種結構示意圖。第二管道50包括多個第三子管道503,每一所述第三子管道503與一子過濾器連通301,且每一所述第三子管道503與所述下一級腔室連通102。其中,閥門開關60設置在每一第三子管道503上。本申請實施例提供的剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設置通過管道與當前級腔室對應的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在管道或所述第二管道上設置有閥門開關。通過閥門開關控制連接每一級腔室的過濾器相互獨立,從而在過濾器被阻塞時通過閥門開關將被堵塞的過濾器取下并不影響整體的剝離進程,提高生產效率。本申請實施例還提供一種剝離液機臺的工作方法,請參閱圖5,圖5為本申請實施例提供的剝離液機臺的工作方法的流程示意圖。剝離液的主要成分是什么?佛山哪家剝離液推薦貨源
剝離液的發展趨勢如何。佛山BOE蝕刻液剝離液配方技術
根據對華新光電、日東集團的剝離液成分進行分析得知,剝離液主要成分為單乙醇胺(MEA),二甲亞砜(DMS0)和二乙二醇單丁醚(BDG),其中市場上大部分以二乙二醇單丁醚居多。剝離液廢液多呈深黑色且氣味大,由以下幾種組分構成:(1)、1~20%重量的醇胺或者酰胺,以伯胺和腫胺為主。(2)、10~60%重量的醇;(3)、10~50%重量的水;(4)、5~50%重量的極性有機溶劑,如;N-甲基吡咯烷酮(NMP),環丁基砜、二甲基亞砜(DMSO)、二甲基乙酰胺、N-乙基甲酰胺等。(5)、~3%重量的金屬抗蝕劑,如2-氨基環己醇、2-氨基環戊醇等。根據上述分析可以看出,剝離液中大部分是有機溶劑,可以加以回收資源化利用,或者將剝離廢液進行脫色凈化處理后再用于生產中,配成剝離液。當前國內主要產生剝離液的廠家主要分布在天津及深圳一帶,均是高新技術發達區域,隨著國內經濟及城市的發展,剝離液產廢地點將越來越,也將引起環保的重視及關注。 佛山BOE蝕刻液剝離液配方技術