本發明涉及回收處理技術領域,具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術:廢銅蝕刻液含有可回收的金屬,所以需要進行回收處理,目前通用的做法是,使用化學方法回收廢液內的銅,或提煉成硫酸銅產品,工藝落后,銅回收不徹底,處理的經濟效益不明顯,有二次污染污染物排放,一旦處理不當往外排放,勢必對水體生態系統造成大的沖擊。市場上的廢銅蝕刻液的回收處理裝置只能簡單的對蝕刻液進行回收處理,不能對蝕刻液進行循環電解,使得剩余蝕刻液中的銅離子轉化不充分,而且蝕刻液導入到電解池中會對電解池造成沖擊,進而影響電解池的使用壽命,并且在回收處理中會產生有害氣體而影響空氣環境,也不能在回收結束后對裝置內部進行清理,為此,我們提出一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。技術實現要素:本發明的目的在于提供一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置,以解決上述背景技術中提出的市場上的廢銅蝕刻液的回收處理裝置只能簡單的對蝕刻液進行回收處理,不能對蝕刻液進行循環電解,使得剩余蝕刻液中的銅離子轉化不充分,而且蝕刻液導入到電解池中會對電解池造成沖擊,進而影響電解池的使用壽命,并且在回收處理中會產生有害氣體而影響空氣環境。如何選擇一家好的做蝕刻液的公司。綿陽BOE蝕刻液蝕刻液配方技術
所述制備裝置主體的內部中間部位活動連接有高效攪拌裝置,所述制備裝置主體的一側中間部位嵌入連接有翻折觀察板,所述制備裝置主體的底端固定連接有裝置底座,所述裝置底座的內部底部固定連接有成品罐,所述裝置底座的頂端一側固定連接有鹽酸裝罐,所述裝置底座的頂端另一側固定連接有硝酸裝罐,所述高效攪拌裝置的內部頂部中間部位活動連接有旋轉搖勻轉盤,所述高效攪拌裝置的內部頂部兩側活動連接有震蕩彈簧件,所述震蕩彈簧件的頂端固定連接有運轉電機組,所述運轉電機組的頂端電性連接有控制面板,所述高效攪拌裝置的內部中間部位固定連接有致密防腐桿,所述致密防腐桿的內部內側貫穿連接有攪動孔,所述鹽酸裝罐的內部一側嵌入連接有嵌入引流口,所述嵌入引流口的一端固定連接有負壓引流器,所述負壓引流器的一端固定連接有注入量控制容器,所述注入量控制容器的內部內側固定連接有注入量觀察刻度線,所述注入量控制容器的一側嵌入連接有限流銷。推薦的,所述翻折觀察板的內部頂部活動連接有觀察窗翻折滾輪,所述觀察窗翻折滾輪的底端活動連接有內嵌觀察窗。推薦的,所述鹽酸裝罐的頂端嵌入連接有熱水流入漏斗。推薦的,所述裝置底座的內部兩側緊密焊接有加固支架。深圳ITO蝕刻液蝕刻液報價蝕刻液的的性價比、質量哪家比較好?
其中輸送裝置借由至少一呈順時針方向轉動的滾輪帶動基板由噴灑裝置的下端部朝向風刀裝置的***風刀的下端部的方向移動。如上所述的蝕刻方法,其中風刀裝置分別借由一設置于該輸送裝置的上端部的***風刀與一設置于該輸送裝置的下端部的第二風刀朝向基板的上表面與下表面吹送氣體。借此,本實用新型所產生的技術效果:本實用新型的擋液板結構與以之制備的蝕刻設備主要借由具有復數個宣泄孔的擋液板結構搭配風刀裝置的硬體設計,有效使風刀裝置吹出的氣體得以經由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面張力現象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蝕刻不均等異?,F象,確實達到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板導致的基板刮傷或破片風險等主要優勢。附圖說明圖1:傳統擋液板結構的整體設置示意圖。圖2:本實用新型擋液板結構其一較佳實施例的整體結構示意圖。圖3:本實用新型擋液板結構其一較佳實施例的宣泄孔排列示意圖。圖4:本實用新型擋液板結構其二較佳實施例的宣泄孔排列示意圖。圖5:本實用新型擋液板結構其三較佳實施例的宣泄孔排列示意圖。圖6:本實用新型蝕刻設備其一較佳實施例的整體結構示意圖。
在上述硅烷系偶聯劑的含量處于上述含量范圍內的情況下,能夠調節添加劑本身凝膠化,且獲得合適的sio2防蝕和sin蝕刻性能。(c)水本發明的蝕刻液組合物中所包含的上述水可以為用于半導體工序的去離子水,推薦使用18mω/㎝以上的上述去離子水。上述水的含量可以為使包含本發明的必須成分以及除此以外的其他成分的組合物總重量成為100重量%的余量。推薦可以按照本發明的組合物總重量的2~45重量%來包含。<選擇添加劑的方法、由此選擇的添加劑及利用其的蝕刻方法>此外,本發明提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*對上述氮化物膜選擇性蝕刻的蝕刻液組合物的添加劑的方法、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的蝕刻方法。上述蝕刻液組合物中說明的、對于添加劑選擇等的一切內容均可以同樣地應用于本發明的選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的添加劑的方法、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的蝕刻方法。具體而言,提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯劑的方法、由此選擇的硅烷系偶聯劑以及包含該硅烷系偶聯劑的蝕刻方法。哪家蝕刻液質量比較好一點?
本發明涉及一種用來在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法。背景技術:以往,在蝕刻鈦時一直使用含有氫氟酸或過氧化氫的蝕刻液。例如專利文獻1中提出了一種鈦的蝕刻液,該鈦的蝕刻液是用來在銅或鋁的存在下蝕刻鈦,并且該蝕刻液的特征在于:利用由10重量%至40重量%的過氧化氫、%至5重量%的磷酸、%至%的膦酸系化合物及氨所構成的水溶液將pH值調整為7至9。但是,含有氫氟酸的蝕刻液存在毒性高的問題,含有過氧化氫的蝕刻液存在缺乏保存穩定性的問題?,F有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本特許第4471094號說明書。技術實現要素:發明所要解決的問題本發明是鑒于所述實際情況而成,其目的在于提供一種蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法,所述蝕刻液可在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦,而且毒性低,保存穩定性優異。解決問題的技術手段本發明的蝕刻液是為了在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦而使用,并且含有:選自由硫酸、鹽酸及三氯乙酸所組成的群組中的至少一種酸;以及選自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所組成的群組中的至少一種有機硫化合物。所述硫酮系化合物推薦為選自由硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所組成的群組中的至少一種。華星光電用的哪家的蝕刻液?綿陽BOE蝕刻液蝕刻液配方技術
剝離液可以有正膠和負膠以及正負膠不同的分類。綿陽BOE蝕刻液蝕刻液配方技術
并利用水滴的表面張力現象防止水滴由該復數個宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異常現象,確實達到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導致該基板20刮傷或破片風險等主要優勢。該蝕刻設備1可進一步設置有一噴灑裝置50,該噴灑裝置50設置于該擋液板結構10的一端部,且該基板20設置于該擋液板結構10的下方約8毫米至15毫米之間,其中該噴灑裝置50用以噴灑一藥液51至該基板20上,以對該基板20進行一濕式蝕刻制程;由上述的說明,擋液板結構10的設置即是為了避免噴灑裝置50的藥液51繼續對已經完成蝕刻步驟的基板20再進行蝕刻制程,故仍舊會有少量的藥液51噴灑在擋液板結構10上而留下該藥液51的水滴,而該藥液51的水滴亦不能落入該基板20上,以避免該基板20的蝕刻不均的現象產生。該輸送裝置30設置于該基板20的下方,該輸送裝置30包括有至少一滾輪31,其中該滾輪31與該基板20接觸以運行該基板20;在本實用新型其一較佳實施例中,該輸送裝置30用以承載并運送至少一該基板20于該濕式蝕刻機內運行,并接受濕式蝕刻的噴灑裝置50的制程運作,故該輸送裝置30具有一驅動機構(圖式未標示)以驅動該滾輪31轉動,例如:順時針旋轉。綿陽BOE蝕刻液蝕刻液配方技術