激光光斑分析儀發(fā)展

Dimension-Labs 推出 Beamhere 系列光斑分析儀，通過(guò)配套通用軟件構(gòu)建完整光束質(zhì)量評(píng)估體系。該系統(tǒng)集成光斑能量分布測(cè)繪、發(fā)散角測(cè)量及 M2 因子計(jì)算三大功能，可有效分析光束整形、聚焦及準(zhǔn)直效果。所有參數(shù)均符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)，包括光斑寬度、質(zhì)心偏移量和橢圓率等指標(biāo)。用戶可選配 M2 測(cè)試模塊，實(shí)現(xiàn)光束傳播方向上的束腰定位、發(fā)散角測(cè)量及 M2 因子計(jì)算，終通過(guò)軟件一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化測(cè)試報(bào)告。BeamHere把對(duì)于激光光束的評(píng)價(jià)進(jìn)?量化，并由軟件?鍵輸出測(cè)試報(bào)告，精確且?效的完成光束分析。用于千瓦光斑測(cè)量的大功率配件。激光光斑分析儀發(fā)展

維度光電-BeamHere 光斑分析儀憑借高精度光束參數(shù)測(cè)量能力，為激光技術(shù)在各領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用提供支持。在工業(yè)制造中，其亞微米級(jí)光斑校準(zhǔn)功能幫助優(yōu)化激光切割、焊接與打標(biāo)工藝，確保光束能量分布均勻性，提升加工一致性。醫(yī)療領(lǐng)域中，BeamHere 用于眼科準(zhǔn)分子激光設(shè)備的光束形態(tài)監(jiān)測(cè)，通過(guò)實(shí)時(shí)分析能量分布與光斑穩(wěn)定性，保障手術(shù)精度與安全性?？蒲袌?chǎng)景下，該設(shè)備支持超短脈沖激光的時(shí)空特性，為新型激光器與光束整形技術(shù)突破提供數(shù)據(jù)支撐。光通信領(lǐng)域，BeamHere 可檢測(cè)光纖端面光斑質(zhì)量，優(yōu)化光信號(hào)耦合效率，確保通信系統(tǒng)性能穩(wěn)定。全系產(chǎn)品覆蓋 200-2600nm 寬光譜范圍，支持千萬(wàn)級(jí)功率測(cè)量，結(jié)合 M2 因子分析與 AI 算法，為客戶提供從光束診斷到工藝優(yōu)化的全流程解決方案。狹縫光斑分析儀網(wǎng)站光斑分析儀維護(hù)成本？維度光電遠(yuǎn)程指導(dǎo)維修，降低 80% 人工成本。

在激光應(yīng)用領(lǐng)域，高功率光束檢測(cè)一直是個(gè)難題。傳統(tǒng)面陣傳感器十分靈敏，在每平方厘米約 10μW 的功率水平下就會(huì)飽和，常規(guī)激光器功率遠(yuǎn)超此強(qiáng)度，不衰減光束不僅無(wú)法測(cè)量光斑信息，還可能損壞設(shè)備。維度光電為此推出 BeamHere 光斑分析儀系列及適配的高功率光束取樣系統(tǒng)。其掃描狹縫式光斑分析儀采用創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制，可直接測(cè)量近 10W 的高功率激光，無(wú)需額外衰減片。在此基礎(chǔ)上，還推出單次取樣與雙次取樣兩款衰減配件，可組裝疊加形成多次取樣系統(tǒng)。與合適衰減片搭配，可測(cè)功率超 1000W。單次取樣配件型號(hào) DL - LBA - 1，45° 傾斜設(shè)計(jì)，取樣率 4% - 5%，有 C 口安裝方式和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu)，能測(cè)量任意角度入射激光；雙次取樣配件型號(hào) DL - LBA - 2，內(nèi)部緊湊安裝兩片取樣透鏡，取樣率 0.16% - 0.25%，可應(yīng)對(duì) 400W 功率光束，多面體結(jié)構(gòu)有多個(gè)支撐安裝孔位。組合安裝配件可進(jìn)一步衰減更高功率激光，大衰減程度達(dá) 10??。而且其緊湊結(jié)構(gòu)的取樣光程能滿足聚焦光斑測(cè)量需求，單次取樣 68mm，雙次取樣 53mm，為各類激光應(yīng)用場(chǎng)景的檢測(cè)提供了方案。

維度光電 BeamHere 系列為激光光束質(zhì)量檢測(cè)提供高性價(jià)比解決方案： 掃描狹縫式：國(guó)內(nèi)刀口 / 狹縫雙模式切換，覆蓋 190-2700nm 光譜，可測(cè) 2.5μm-10mm 光束，0.1μm 分辨率實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機(jī)制支持 10W 級(jí)高功率直接測(cè)量，無(wú)需外置衰減片。 相機(jī)式：400-1700nm 寬譜響應(yīng)，支持實(shí)時(shí) 2D/3D 成像與非高斯光束測(cè)量。六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)擴(kuò)展功率量程，可拆卸結(jié)構(gòu)兼顧工業(yè)檢測(cè)與科研成像需求。 M2 測(cè)試模塊：通過(guò) ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法，測(cè)量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數(shù)，適配全系產(chǎn)品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面，支持一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告，滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場(chǎng)景需求。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高精度檢測(cè)，助力客戶提升效率與產(chǎn)品質(zhì)量。高功率激光光束質(zhì)量怎么測(cè)？

選擇適合特定應(yīng)用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應(yīng)用場(chǎng)景及功能需求： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米級(jí)光斑（如半導(dǎo)體加工）優(yōu)先選擇狹縫式（支持 2.5μm 精度），毫米級(jí)光斑（如激光焊接）推薦相機(jī)式（覆蓋 10mm 量程）。 功率等級(jí)：高功率激光（如工業(yè)切割）應(yīng)選狹縫式（直接測(cè)量近 10W），微瓦級(jí)弱光（如科研實(shí)驗(yàn)）可采用相機(jī)式（通過(guò) 6 片衰減片適配）。 光束形態(tài)：高斯或規(guī)則光斑兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟(jì)），非高斯光束（如貝塞爾光束）需相機(jī)式保留細(xì)節(jié)。 脈沖特性：?jiǎn)蚊}沖分析選相機(jī)式（觸發(fā)同步），連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式（需匹配掃描頻率）。 2. 應(yīng)用場(chǎng)景適配 工業(yè)制造：高功率加工（>1W）選狹縫式，動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)與大光斑校準(zhǔn)選相機(jī)式，組合方案可覆蓋全流程需求。 醫(yī)療設(shè)備：眼科準(zhǔn)分子激光需相機(jī)式實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)能量分布，脈沖激光適配觸發(fā)模式，確保手術(shù)精度。 ：超短脈沖測(cè)量、復(fù)雜光束分析（如 M2 因子）依賴相機(jī)式，材料加工優(yōu)化可結(jié)合狹縫式高精度掃描。 光通信：光纖端面檢測(cè)選相機(jī)式分析光斑形態(tài)，激光器表征適配狹縫式高靈敏度測(cè)量。復(fù)雜或高階橫模的光斑測(cè)試系統(tǒng)怎么搭建？光束質(zhì)量光斑分析儀光斑測(cè)試

發(fā)散較大，怎么測(cè)量光束質(zhì)量？激光光斑分析儀發(fā)展

維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米用狹縫式（2.5μm 精度），毫米級(jí)用相機(jī)式（10mm 量程）。 功率等級(jí)：高功率用狹縫式（近 10W），微瓦級(jí)用相機(jī)式（適配衰減片）。 光束形態(tài)：高斯用狹縫式（經(jīng)濟(jì)），非高斯用相機(jī)式（保留細(xì)節(jié)）。 脈沖特性：?jiǎn)蚊}沖用相機(jī)式（觸發(fā)同步），連續(xù)/高頻用狹縫式（匹配掃描頻率）。 2. 應(yīng)用場(chǎng)景適配 工業(yè)：高功率用狹縫式，動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)與校準(zhǔn)用相機(jī)式，組合方案覆蓋全流程。 醫(yī)療：相機(jī)式監(jiān)測(cè)能量分布，脈沖激光適配觸發(fā)模式確保精度。 科研：超短脈沖與復(fù)雜光束分析用相機(jī)式，材料加工優(yōu)化結(jié)合狹縫式。 光通信：光纖檢測(cè)用相機(jī)式，激光器表征用狹縫式高靈敏度測(cè)量。 3. 功能擴(kuò)展規(guī)劃 單一需求：以光斑尺寸與功率為，如高功率 + 亞微米光斑選狹縫式。 復(fù)雜場(chǎng)景：雙技術(shù)組合（狹縫式 + 相機(jī)式），實(shí)現(xiàn)全場(chǎng)景覆蓋。 長(zhǎng)期規(guī)劃：科研機(jī)構(gòu)選全功能模塊（M2 因子測(cè)試、皮秒同步），工業(yè)用戶選基礎(chǔ)款 + 定制接口。激光光斑分析儀發(fā)展