光斑分析儀原廠

Dimension-Labs 針對高功率激光檢測難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統，突破傳統面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制，通過創新狹縫物理衰減機制實現 10W 級激光直接測量，配合可疊加的單次（DL-LBA-1）與雙次（DL-LBA-2）取樣配件形成多級衰減方案，衰減達 10??，可測功率超 1000W。該系統采用 45° 傾斜設計的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率，雙次配件內置雙片透鏡實現 0.16%-0.25% 取樣率，均配備 C 口通用接口和鎖緊環結構，支持任意角度入射光束檢測。其優化設計的 68mm（單次）和 53mm（雙次）取樣光程確保聚焦光斑完整投射至傳感器，解決傳統外搭光路光程不足問題，緊湊結構減少 70% 空間占用。系統覆蓋 190-2500nm 寬光譜范圍，通過 CE/FCC 認證，可在 - 40℃至 85℃環境穩定工作，已成功應用于工業激光加工（熱影響區≤30μm）、科研超快激光（皮秒脈沖分析）及醫療設備校準（能量均勻性誤差＜2%），幫助客戶提升 3 倍檢測效率并降** 30% 檢測成本。高功率激光光束質量怎么測？光斑分析儀原廠

維度光電-BeamHere光斑分析儀通過測量光束質量參數，為激光技術在多領域的高效應用提供支撐。在工業加工領域，其亞微米級光斑校準能力有效優化切割、焊接及打標工藝，確保光束輪廓的一致性，從而保障加工質量。在醫療領域，該設備用于眼科準分子激光手術設備的校準，實時監測光束能量分布，確保手術的安全性。在科研場景中，它支持皮秒級脈沖激光測量，為物理與材料提供高精度數據，推動新型激光器件的。在光通信領域，該分析儀能夠實現光纖端面光斑形態分析，保障光信號傳輸的穩定性。在農業與生命領域，通過分析激光誘變育種的光束參數，優化植物生長調控的效率。全系產品覆蓋200-2600nm寬光譜范圍，支持千萬級功率測量，結合M2因子測試模塊與AI分析軟件，為各行業提供從光斑形態到傳播特性的全鏈路檢測方案，助力客戶提升產品性能和生產效率。無干涉光斑分析儀軟件光斑分析儀保修期多長？維度光電整機 3 年質保，部件 5 年延保。

如何使用光斑分析儀 Step 1 準備設備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上，調整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦，打開 BeamHere 軟件等待設備識別。 Step 2 采集數據 開啟激光器預熱 10 分鐘，點擊軟件 "開始采集" 按鈕。實時觀察 2D 成像界面，確保光斑無過曝或欠曝，可通過轉輪調節衰減片至合適狀態。 Step 3 分析參數 在 "高級分析" 模塊勾選所需參數，軟件自動計算光斑尺寸（±0.5μm 精度）、能量均勻性（CV 值）及光束質量因子。3D 視圖支持手勢縮放，便于觀察高階橫模分布。 Step 4 驗證結果 切換至 "歷史記錄" 對比多次測量數據，使用 "統計分析" 功能生成標準差曲線。若發現異常，可調用 "單點測量" 工具檢查特定位置能量值。 Step 5 導出報告 在 "報告模板" 中選擇 "科研版" 或 "工業版"，自動生成帶水印的 PDF 報告，包含光斑圖像、參數表格、趨勢圖表及 QC 判定結果。

Dimension-Labs 為激光設備與生產企業推出 Beamhere 光束質量管家。該系統通過智能檢測模塊，可快速完成光斑能量分布測繪、發散角計算及 M2 因子分析，幫助用戶優化光束整形效果、提升聚焦精度。所有測試參數均符合 ISO11146 國際標準，包含光斑寬度、質心位置等指標。可選配的 M2 測試功能可動態分析光束傳播特性，終由軟件自動生成專業測試報告，將傳統人工檢測效率提升 80% 以上。 產品優勢： 滿足測試需求的全系列產品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。無干涉條紋的光斑質量分析儀。

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國內的刀口 / 狹縫雙模式切換技術，覆蓋 190-2700nm 寬光譜，可測 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率突破傳統檢測極限。其創新設計實現三大優勢： 雙模式自適應檢測 通過軟件切換刀口 / 狹縫模式，分析 < 20μm 極小光斑形態或 10mm 大光斑能量分布，全量程無盲區。 高功率直接測量 狹縫物理衰減機制允許單次通過狹縫區域光，無需外置衰減片即可安全測量近 10W 高功率激光。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實現 0.1μm 分辨率，完整捕捉亞微米級光斑細節，避免能量分布特征丟失。 設備內置正交狹縫轉動輪，通過旋轉掃描同步采集 XY 軸功率數據，經算法處理輸出光束直徑、橢圓率等 20 + 參數。緊湊模塊化設計適配多場景安裝，通過 CE/FCC 認證，適用于激光加工、醫療設備及科研領域，助力客戶提升光束質量檢測精度與效率。激光光斑的光斑尺寸、形狀、強度分布、M2因子、空間位置與穩定性測試。光通信光斑分析儀作用

光斑分析儀搭配什么 M2 因子測量模塊好？光斑分析儀原廠

維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米用狹縫式（2.5μm 精度），毫米級用相機式（10mm 量程）。 功率等級：高功率用狹縫式（近 10W），微瓦級用相機式（適配衰減片）。 光束形態：高斯用狹縫式（經濟），非高斯用相機式（保留細節）。 脈沖特性：單脈沖用相機式（觸發同步），連續/高頻用狹縫式（匹配掃描頻率）。 2. 應用場景適配 工業：高功率用狹縫式，動態監測與校準用相機式，組合方案覆蓋全流程。 醫療：相機式監測能量分布，脈沖激光適配觸發模式確保精度。 科研：超短脈沖與復雜光束分析用相機式，材料加工優化結合狹縫式。 光通信：光纖檢測用相機式，激光器表征用狹縫式高靈敏度測量。 3. 功能擴展規劃 單一需求：以光斑尺寸與功率為，如高功率 + 亞微米光斑選狹縫式。 復雜場景：雙技術組合（狹縫式 + 相機式），實現全場景覆蓋。 長期規劃：科研機構選全功能模塊（M2 因子測試、皮秒同步），工業用戶選基礎款 + 定制接口。光斑分析儀原廠