浙江MEMS增材制造無掩膜激光直寫

Nanoscribe是非常獨特的納米和微米級3D打印技術。該公司成立于2007年，目前已經在激光光刻行業處于領頭的地位。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT光刻系統主要通過在微尺度上運用激光來固化感光材料。3D打印材料主要包括液態的光敏材料和固態的旋涂光刻材料。憑著其獨特的微尺度3D打印技術與人性化的軟件，Nanoscribe毫無疑問是增材制造領域里的一股顛覆性力量。ORNL的科學家們使用Nanoscribe的增材制造系統來構建世界上特別小的指尖陀螺，該迷你玩具的寬度只為100微米（與人類頭發的寬度相當）。除了用于無線技術，Nanoscribe的3D打印技術還可用于制造高精度的光學微透鏡，衍射光學元件，用于生物打印的納米級支架等等。增材制造究竟是什么技術？想要了解請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。浙江MEMS增材制造無掩膜激光直寫

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統制造耗時長且成本高。浙江MEMS增材制造無掩膜激光直寫增材制造的優勢在于能夠將熱交換器芯和歧管作為單個整體部件生產。

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的排名在前的開發商，也是BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印機，用于制造微納米級的精細結構。據該公司稱，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產品線，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(MEMS)應用的精度、輸出和可用性。基于雙光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構，在面積達25cm2的區域上都具有亞微米級精度、

Nanoscribe，基于雙光子聚合（2PP）原理的3D微納加工的先驅品牌，致力于為各行業提供高效、精密的增材制造解決方案。NanoscribePhotonicProfessional打印系統是Nanoscribe的旗艦產品系列，其獨特的2PP技術可以實現微米級別的精度和高度復雜性的結構，是目前市場上**的3D微納加工設備之一。與其他3D打印技術相比，NanoscribePhotonicProfessional具有更高的精度和更大的自由度，可以制造出極其細致的結構和復雜的幾何形狀。這一特點使得Nanoscribe在微納電子、生物醫學、光電子等領域有著***的應用。用戶可以使用NanoscribePhotonicProfessional快速打印出高質量的微米級別的器件和樣品，**提高了研究和生產的效率和質量。增材制造技術可用于快速原型制造和生產。

借助Nanoscribe的3D微納加工技術，您可以實現亞細胞結構的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外，3D微納加工技術還可以應用在微創手術的生物醫學儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說增材制造技術可以提供定制化的產品設計。上海德國增材制造PPGT2

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Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統制造商，它推出了一種新型機器QuantumX.新的系統使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據Nanoscribe的聯合創始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制。QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的**前沿工作。“Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學院，現在在上海設有子公司，在美國設有辦事處。該公司在德國歷史特別悠久，規模比較大的光學系統制造商之一蔡司財務的支持。納米標記系統基于雙光子吸收，這是一種分子被激發到更高能態的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強度比較高。浙江MEMS增材制造無掩膜激光直寫